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產品詳情
簡單介紹：
單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于非金屬膜、光學膜的濺射，根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。
詳情介紹：
TN-MSP300S-RF 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇；所配射頻電源，500W-1000W ，可用于非金屬膜、光學膜的濺射，根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。
鍍膜儀具有一路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達10E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。
用途：單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。
| 產品名稱 |
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） |
| 產品型號 |
TN-MSP300S-RF |
| 特點 |
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| 參數 |
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| 規格 |
尺寸：1090mm × 900mm × 1250mm；重量：350kg ；電壓：AC220V,50Hz；功率：6KW |
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